Глобальный поиск Единое окно поиска по РИД и запросам

Способ получения локально легированной кремниевой плёнки с заданными характеристиками для устройств микроэлектроники

Наименование РИД Способ получения локально легированной кремниевой плёнки с заданными характеристиками для устройств микроэлектроники
Реферат Способ получения локально легированной кремниевой плёнки с заданными характеристиками для устройств микроэлектроники, заключающийся в том, что изготавливают структуру, включающую в себя подложку, нанесённый на неё диэлектрический слой и аморфную кремниевую плёнку, нанесённую методом плазменно-химического осаждения из газовой фазы с помощью подачи в реактор потока моносилана при температуре до 700 °C, отличающийся тем, что выполняют ex situ локальное плазменное легирование кремниевой плёнки через маску из фоторезиста или электронного резиста по заданному рисунку путём подачи в реактор потока трихлорида бора и прикладыванием напряжения смещения между образцом и плазмой, после чего осуществляют термический отжиг образца для активации легирующей примеси при температуре 600 – 1000 °C.
Возможные направления использования Нанотехнологии
Количество опытных образцов 10
Количество просмотров 7
Наличие дополнительных файлов False
Использование РИД правообладателем False
Внешнее использование РИД False
НИОКТР (JSON) {}
ИКСИ (JSON) []
ИКСПО (JSON) []
ОЭСР (JSON) []
Дата первого статуса 2024-12-12T14:07:26.569625+00:00
Предполагаемый тип результата Изобретение
Ожидаемая роль Исполнитель
Заказчик МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Руководитель работы Чуприк Анастасия Александровна
Руководитель организации Баган Виталий Анатольевич
Регистрационный номер НИОКТР 123011300004-9
Последний статус Подтверждена, 625112500022-8, 2025-11-25 03:27:51 UTC
ОКПД Работы оригинальные научных исследований и экспериментальных разработок в области естественных и технических наук, кроме биотехнологии
Ключевые слова полевой транзистор; контролируемая проводимость; плазменное легирование; кремниевая плёнка; локальное легирование; легирования кремния
Исполнители ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "МОСКОВСКИЙ ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ (НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ)"
Авторы Марголин Илья Григорьевич; Чуприк Анастасия Александровна
Коды тематических рубрик 47.14.07 - Проектирование и конструирование полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники; 47.09.29 - Полупроводниковые материалы; 47.09.48 - Наноматериалы для электроники
OESR Физика конденсированного состояния (включая физику твердого тела, сверхпроводимость); Нано-материалы [производство и свойства]; Электротехника и электроника
Приоритеты научно-технического развития